三菱ケミカル（東京都千代田区）は2026年8月19日、最先端半導体向け研磨剤の原料となる超高純度コロイダルシリカの事業化を決め、九州事業所・福岡地区（福岡県北九州市）に生産設備を新設すると明らかにしました。新設備は2028年10月に営業運転を始める予定です。
コロイダルシリカは、シリコンウエハの研磨スラリーや配線層のCMP（化学機械研磨）スラリーの原料として使われ、ナノレベルの平坦化や不純物低減、スクラッチ抑制、高い除去率が求められます。研磨対象の材料によって適する粒子形状や物性が異なる点も特徴です。
同社は、超高純度原料のテトラメトキシシランから一貫生産することで不純物の混入を抑え、顧客ニーズに合わせて粒子サイズや密度などをカスタマイズできる超高純度品を生産します。生成AIやデータセンター向けなど最先端半導体市場の成長を見据え、材料サプライチェーンへの貢献を狙います。
今後は北九州での新設備立ち上げを進め、2028年10月の稼働開始後、需要動向に応じた安定供給と高付加価値化を通じて半導体の高度化を支える方針です。
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最先端半導体向け超高純度コロイダルシリカの事業化について
