Elith、言語処理学会のスポンサー賞「Elith賞」を東大のLLM安全性研究に授与

株式会社Elith（東京都文京区）は2026年3月27日、言語処理学会のスポンサー賞「Elith賞」を、奥田悠斗さん・鶴岡慶雅さん（東京大学）の研究「ファインチューニングにおける学習データの形式情報がLLMの安全性に与える影響」に贈ったと明らかにしました。

対象研究は、学習データの「形式情報」（例：記号や書式、構造化のされ方）が複雑になるほど、大規模言語モデル（LLM）の安全性が低下し得る点を示しました。また、形式分離学習によって安全性を高める一方で、タスク性能とのトレードオフが生じることを報告しています。

Elithは、顧客向けLLMのファインチューニングで安全性と性能の両立を重視しており、生成AIの社会実装で重要性が増すAIセーフティ領域にも注力しています。AIエージェントプラットフォーム「GENFLUX（ジェンフラックス）」を通じ、AI基盤構築の支援も進めています。

同社は今後も、安全で信頼できるAI技術の普及に向けて取り組む方針です。