ニューフレアテクノロジー（NFT）は2026年2月22日から26日まで、米国カリフォルニア州サンノゼ市で開かれた半導体露光関連技術の国際会議「SPIE Advanced Lithography + Patterning」に参加し、マルチ電子ビームマスク描画装置に関する開発成果を計3件発表しました（うち1件は共著）です。
発表のうち単独の口頭発表として、招待論文「MBM-4000: Advanced features and applications」（Paper 13982-17）を提示しました。また「電子マルチビームによるマスク描画」で正弦波パターンを用いた形状再現性（設計通りの形状にどれだけ近いか）の評価要因を解析する内容（Paper 13981-114）も報告しました。
SPIEは国際光工学会が毎年開催する枠組みで、ウェハ露光やフォトマスク製作など、半導体の微細化に直結する技術報告が集まる場です。NFTは同会議での報告を通じ、開発中装置の機能や評価手法に関する知見を共有した形です。
今後は、会議で示した評価・解析結果の蓄積を踏まえ、装置機能の高度化や適用範囲の拡大につながるかが焦点になります。
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公式HP: https://www.nuflare.co.jp
PRTIMES
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半導体露光関連技術の国際会議「SPIE Advanced Lithography + Patterning」に参加