ウシオ電機は2026年Q1から、ウェハ向け一括投影露光装置UX-4シリーズの新製品「UX-45114SC」の受注を始めます。対応口径はφ6/φ8インチで、解像力はL/S＝2.8µm。照射エリアを維持しつつ、重ね合わせ精度（複数層の位置合わせ精度）も改善したとしています。対象はパワー半導体、MEMSセンサ、通信・光電融合関連の光半導体などです。背景には、デバイス高性能化に伴う微細化と、チップ生産性向上を狙った大口径化の進行があります。同社は独自の光学設計を基に、従来と異なる特殊光学顕微鏡を採用して性能向上を図ったと説明。マスクダメージレスの一括投影露光で高生産性120WPHをうたい、厚膜レジストなどに有利な深い焦点深度にも触れています。水銀レスやLED光源対応も掲げ、今後は次世代デバイスの大型ウェハ・高精度レイヤー需要の取り込みが焦点になります。
【イベント情報】
SEMICON Japan 2025（パネル展示）
東京ビッグサイト
2025年12月17日～19日
ブースNo.E4522
source: PR TIMES